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东北大学硕士学位论文射频离子源研制及引出系统数值模拟姓名：马利民申请学位级别：硕士专业：流体机械及工程指导教师：巴德纯20051201东北大学硕士学位论文摘要射频离子源研制及引出系统数值模拟随着光学工业和半导体工业的发展，越来越多的镀膜设备配置了宽束离子源，至今宽束...
1.许沭华任兆杏沈克明翁坚，射频ICP离子源设计研究，真空科学与技术，第22卷第4期2002年7月。2.XUShu-hua（许沭华）,RenZhao-xing（任兆杏）,SHENKe-ming（沈克明）“ExtractionCharacteristicsofRadioFrequencyICPIonSource”，PlasmaSc...
ICP利用在电感线圈上施加的强大功率的射频信号在线圈包围区域形成高温等离子体，并通过气体的推动，保证了等离子体的平衡和持续电离，在ICP-MS中，ICP起到离子源的作用，高温的等离子体使大多数样品中的元素都电离出一个电子而形成了一价正离子。
启动离子源之前，必须确保离子源室和工件台通入冷却水•如果刻蚀工艺采用离子束入射角度≥30度时，在刻蚀时间...•射频源功率不宜设置过高,ICP小于2000W,RF小于500W4ICP刻蚀原理及设备34加工过程中参数调节4ICP刻蚀原理及设备温度刻...
ü离子能量和离子电流密度单独可控，离子电流密度增加时，可保持离子能量不变ü裂解率高，可达到90%ü近乎中性等离子体ü不使用灯丝，没有颗粒问题ü可扩展性强，可使用从2英寸到1.4米的基板ü工作压力范围宽，可使用在0.01-10Pa的环境下
浅谈什么是射频离子源-常州鑫立离子技术有限公司-在射频离子源中，气体通过专门设计的气压隔离器进入石英放电室，然后13.56MHz的RF功率通过由LC组成的人工传输线感应到放电室中，从而产生涡旋周向电场。该电场可用于电离工作气体。使用三栅离子光学系统。
一篇文章读懂等离子体刻蚀.1.Plasma：广泛应用而又复杂的物理过程.等离子体刻蚀在集成电路制造中已有40余年的发展历程，自70年代引入用于去胶，80年代成为集成电路领域成熟的刻蚀技术。.刻蚀采用的等离子体源常见的有容性耦合等离子体…
一篇文章读懂等离子体刻蚀.1.Plasma：广泛应用而又复杂的物理过程.等离子体刻蚀在集成电路制造中已有40余年的发展历程，自70年代引入用于去胶，80年代成为集成电路领域成熟的刻蚀技术。.刻蚀采用的等离子体源常见的有容性耦合等离子体(CCP-capacitivelycoupled...
ICP的工作原理：感耦等离子体原子发射光谱分析是以射频发生器提供的高频能量加到感应耦合线圈上，并将等离子炬管置于该线圈中心，因而在炬管中产生高频电磁场，用微电火花引燃，使通入炬管中的氩气电离，产生电子和离子而导电，导电的气体受高频电磁场作用，形成与耦合线圈同心的涡流...
这个频率范围属于射频波段，射频波段是特别有意义的。对于低频端的射频放电，除了重离子外，等离子体中的其它各种粒子的运动均可以跟上射频电磁场的变化；而对于高频端的射频放电，等离子体中只有电子可以响应射频电磁场的变化，离子由于惯性较大，只能响应时间平均的电场。